11月26日消息，國產(chǎn)高端光刻上海芯上微裝科技股份有限公司宣布，機(jī)關(guān)鍵突進(jìn)光公司自主研發(fā)的破芯首臺350nm步進(jìn)光刻機(jī)（AST6200 ）正式完成出廠調(diào)試與驗(yàn)收，啟程發(fā)往客戶現(xiàn)場。上微

芯上微裝表示，裝首正式這標(biāo)志著我國在高端半導(dǎo)體光刻設(shè)備領(lǐng)域再次實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵突破。刻機(jī)

據(jù)介紹，發(fā)運(yùn)AST6200光刻機(jī)是國產(chǎn)高端光刻芯上微裝打造的全自主可控的步進(jìn)式光刻設(shè)備，專為功率、機(jī)關(guān)鍵突進(jìn)光射頻、破芯光電子及Micro LED等場景量身定制。上微

其高分辨率成像滿足先進(jìn)工藝需求，裝首正式搭載大數(shù)值孔徑投影物鏡，刻機(jī)結(jié)合多種照明模式與可變光瞳技術(shù)，發(fā)運(yùn)實(shí)現(xiàn)350nm高分辨率，國產(chǎn)高端光刻滿足當(dāng)前主流化合物半導(dǎo)體芯片的光刻工藝要求。

高精度套刻配置高精度對準(zhǔn)系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)正面套刻80nm，背面套刻500nm，確保多層圖形精準(zhǔn)套刻，提升器件良率。

不僅如此，AST6200還搭載芯上微裝自主研發(fā)的全棧式軟件控制系統(tǒng)，從底層驅(qū)動到上層工藝管理，實(shí)現(xiàn)完全自主主權(quán)。

公開資料顯示，芯上微裝成立于2025年02月，是一家專注于高端半導(dǎo)體裝備研發(fā)、生產(chǎn)和服務(wù)的創(chuàng)新型科技企業(yè)，目前主力產(chǎn)品為晶圓級先進(jìn)封裝光刻機(jī)、激光退火設(shè)備和前道晶圓缺陷檢測設(shè)備。