11月15日消息，渲消失根據(jù)博主爆料的染圖消息，明年的出爐iPhone 18 Pro系列將首次縮小靈動(dòng)島面積，2027年亮相的挖孔20周年iPhone將會(huì)把Face ID和前攝全部置于屏幕下方，實(shí)現(xiàn)真面屏形態(tài)。漸漸

有博主基于爆料信息繪制了iPhone 18 Pro和20周年iPhone的渲消失渲染圖，在這兩代iPhone上，染圖正面的出爐挖孔區(qū)域漸漸消失。

目前安卓陣營已經(jīng)推出了屏下前攝機(jī)型，挖孔代表品牌是漸漸努比亞，最新的渲消失紅魔11 Pro系列以及努比亞Z80 Ultra都是真全面屏旗艦。以努比亞Z80 Ultra為例，染圖該機(jī)采用納米級(jí)高透材料、出爐獨(dú)立像素驅(qū)動(dòng)技術(shù)，挖孔顯著提升屏下攝像透光率，漸漸最終實(shí)現(xiàn)屏下鏡頭全場景完美隱藏效果。

相比努比亞，蘋果要想要實(shí)現(xiàn)真全面屏設(shè)計(jì)，不僅要做屏下前攝，還要將Face ID組件置于屏幕下方，既不影響顯示效果又兼顧生物識(shí)別。

在此之前，有關(guān)蘋果屏下Face ID的多項(xiàng)專利被曝光，蘋果的新專利通過創(chuàng)新設(shè)計(jì)，移除部分子像素，使紅外光能夠更順暢地穿過屏幕蓋板，從而實(shí)現(xiàn)高效的屏下人臉識(shí)別。