12月18日消息，全球近日，最先Intel宣布已安裝ASML最新的安裝TWINSCAN EXE:5200B光刻系統(tǒng)，這是首套全球首套、也是全球目前最先進(jìn)的第二代High-NA EUV光刻系統(tǒng)，將用于Intel 14A節(jié)點(diǎn)制程。最先

此前，安裝Intel曾于2023年底接收了首套High-NA EUV機(jī)型EXE:5000，首套并在俄勒岡州的全球Fab D1X工廠完成了早期技術(shù)研發(fā)與人才儲(chǔ)備，而此次落地的最先 EXE:5200B 則在生產(chǎn)力與精度上實(shí)現(xiàn)了提升。

Intel指出，安裝在與ASML的首套合作下，已成功證明了最先進(jìn)的全球光刻設(shè)備，在提供改進(jìn)的最先精度和生產(chǎn)力方面的技術(shù)可行性，為High NA EUV設(shè)備未來的安裝大量制造奠定了基礎(chǔ)。

根據(jù)官方資料，EXE:5200B在標(biāo)準(zhǔn)條件下的產(chǎn)能可達(dá)每小時(shí)175片晶圓，但I(xiàn)ntel計(jì)劃通過進(jìn)一步的系統(tǒng)調(diào)整，將產(chǎn)出率推高至每小時(shí)200片晶圓以上。

新系統(tǒng)還在Intel過去一年多對(duì)High-NA EUV光刻設(shè)備的使用經(jīng)驗(yàn)之上，提升了套刻精度達(dá)到了0.7nm。

Intel表示，High-NA EUV光刻設(shè)備是其晶圓代工中的重要能力，結(jié)合了自身在掩模、蝕刻、解析度增強(qiáng)和計(jì)量等相關(guān)領(lǐng)域的技能，達(dá)成了當(dāng)今芯片所需的更精細(xì)晶體管細(xì)節(jié)。