11月26日消息，國產高端光刻上海芯上微裝科技股份有限公司宣布，機關鍵突進光公司自主研發(fā)的破芯首臺350nm步進光刻機（AST6200 ）正式完成出廠調試與驗收，啟程發(fā)往客戶現(xiàn)場。上微

芯上微裝表示，裝首正式這標志著我國在高端半導體光刻設備領域再次實現(xiàn)關鍵突破?？虣C

據(jù)介紹，發(fā)運AST6200光刻機是國產高端光刻芯上微裝打造的全自主可控的步進式光刻設備，專為功率、機關鍵突進光射頻、破芯光電子及Micro LED等場景量身定制。上微

其高分辨率成像滿足先進工藝需求，裝首正式搭載大數(shù)值孔徑投影物鏡，刻機結合多種照明模式與可變光瞳技術，發(fā)運實現(xiàn)350nm高分辨率，國產高端光刻滿足當前主流化合物半導體芯片的光刻工藝要求。

高精度套刻配置高精度對準系統(tǒng)，實現(xiàn)正面套刻80nm，背面套刻500nm，確保多層圖形精準套刻，提升器件良率。

不僅如此，AST6200還搭載芯上微裝自主研發(fā)的全棧式軟件控制系統(tǒng)，從底層驅動到上層工藝管理，實現(xiàn)完全自主主權。

公開資料顯示，芯上微裝成立于2025年02月，是一家專注于高端半導體裝備研發(fā)、生產和服務的創(chuàng)新型科技企業(yè)，目前主力產品為晶圓級先進封裝光刻機、激光退火設備和前道晶圓缺陷檢測設備。