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11月11日消息,據(jù)“中國光谷”微信公眾號介紹,日前,國內(nèi)首條基于12寸40nm CMOS工藝線的全國產(chǎn)化硅光PDK工藝設(shè)計套件)、TDK測試設(shè)計套件)及ADK封裝設(shè)計套件)流

全國產(chǎn)化!國內(nèi)首條12寸硅光芯片流片平臺正式投用

11月11日消息,全國據(jù)“中國光谷”微信公眾號介紹,產(chǎn)化寸硅日前,國內(nèi)光芯國內(nèi)首條基于12寸40nm CMOS工藝線的首條式投全國產(chǎn)化硅光PDK(工藝設(shè)計套件)、TDK(測試設(shè)計套件)及ADK(封裝設(shè)計套件)流片服務(wù)平臺正式在光谷投用。片流片平

該平臺由國家信息光電子創(chuàng)新中心(NOEIC)建設(shè)運營,臺正標(biāo)志著光谷企業(yè)在硅光領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)又一關(guān)鍵突破。全國

據(jù)介紹,產(chǎn)化寸硅傳統(tǒng)芯片靠電子傳輸數(shù)據(jù),國內(nèi)光芯好比汽車運貨,首條式投硅光芯片則讓光子穿梭于光纖,片流片平變身“光速高鐵”。臺正

該平臺創(chuàng)新構(gòu)建硅光MPW服務(wù)模式,全國通過將多個芯片設(shè)計集成于同一晶圓流片,產(chǎn)化寸硅實現(xiàn)成本分?jǐn)偅瑖鴥?nèi)光芯大幅降低研發(fā)門檻。


國家信息光電子創(chuàng)新中心硅光芯片

平臺基于40nm制程的硅光PDK1.0性能總體達(dá)到商用要求,其加工精度、波導(dǎo)損耗、光耦合效率等指標(biāo)達(dá)國際先進(jìn)水平。

據(jù)了解,除PDK外,平臺還集成了TDK和ADK,可提供芯片從集成設(shè)計到封裝驗證的全流程支撐,可滿足科研成果轉(zhuǎn)化和產(chǎn)品研制中的快速迭代需求。


國家信息光電子創(chuàng)新中心硅光芯片加工場景

近年隨著技術(shù)成熟及AI需求爆發(fā),硅光芯片在人工智能、大數(shù)據(jù)等前沿產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域迎來大規(guī)模應(yīng)用。

咨詢機(jī)構(gòu)LightCounting預(yù)計,到2030年硅光芯片在光通信芯片市場占比將增至60%。

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